pvd ¿qué significa?
Abreviatura de deposición física de vapor.
La tecnología de deposición física de vapor (PVD) se refiere al uso de métodos físicos para vaporizar fuentes de materiales (superficies sólidas o líquidas) en átomos gaseosos, moléculas o parcialmente ionizados en iones en condiciones de vacío, y pasarlos a través de bajas temperaturas. -Tecnología de gas a presión (o plasma) para depositar películas delgadas con funciones específicas en la superficie de los sustratos.
Los principales métodos de deposición física de vapor incluyen la evaporación al vacío, el recubrimiento por pulverización catódica, el recubrimiento por plasma por arco, el recubrimiento iónico y la epitaxia por haz molecular. Hasta ahora, la tecnología de deposición física de vapor no sólo puede depositar películas metálicas y de aleaciones, sino también compuestos, cerámicas, semiconductores y películas de polímeros.
Información ampliada
Las principales ventajas y características son las siguientes:
1 Los materiales de recubrimiento tienen una amplia gama y son de fácil obtención: incluidos metales puros, Aleaciones, compuestos, conductores o no conductores. Conductores, de bajo punto de fusión o de alto punto de fusión, en fase líquida o sólida, en bloque o en polvo, se pueden utilizar directamente o después del procesamiento.
2. Método de evaporación de materiales de galvanoplastia: se puede utilizar evaporación a alta temperatura o pulverización catódica a baja temperatura.
3. La energía de las partículas depositadas es ajustable y la reactividad es alta. A través del medio de plasma o haz de iones, se puede obtener la energía de las partículas de deposición necesaria para el recubrimiento y se puede mejorar la calidad de la película. Mejorar la reactividad a través de procesos de desequilibrio del plasma.
4. Deposición a baja temperatura: la alta energía y la alta actividad de las partículas depositadas no requieren procesos de alta temperatura que sigan las leyes termodinámicas tradicionales. La síntesis y deposición de reacciones a baja temperatura se pueden lograr a baja temperatura. Sustratos, ampliando el rango de aplicación de sustratos de deposición. Se pueden depositar varios tipos de películas: como películas metálicas, películas de aleaciones, películas compuestas, etc.
5. Sin contaminación, propicio para la protección del medio ambiente.
La tecnología de deposición física de vapor se ha utilizado ampliamente en diversas industrias y muchas tecnologías han logrado producción industrial. Sus productos de recubrimiento cubren muchos campos prácticos.