¿Qué significa pvd?

PVD (Physical Vapor Deposition), deposición física de vapor, se refiere al uso de tecnología de descarga de arco de alta corriente y bajo voltaje en condiciones de vacío, utilizando descarga de gas para evaporar el material objetivo e ionizar el material evaporado. y gas. La aceleración del campo eléctrico se utiliza para depositar materiales evaporados y sus productos de reacción en la pieza de trabajo. La aceleración del campo eléctrico se utiliza para depositar el material evaporado y sus productos de reacción sobre la pieza de trabajo.

Características básicas

La tecnología de deposición física de vapor tiene un proceso simple, mejora el medio ambiente, no contamina, tiene menos consumibles, tiene una película uniforme y densa y tiene una fuerte fuerza de unión. con el sustrato. Esta tecnología se usa ampliamente en la industria aeroespacial, electrónica, óptica, maquinaria, construcción, industria ligera, metalurgia, materiales y otros campos. Puede producir lubricación resistente al desgaste, resistente a la corrosión, decorativa, conductora, aislante, fotoconductora, piezoeléctrica, magnética. , ultrasónico, etc. Propiedades conductoras y de otro tipo de la capa de película.

Con el desarrollo de industrias emergentes y de alta tecnología, han aparecido una serie de novedades avanzadas en la tecnología de deposición física de vapor, como la tecnología compatible con revestimiento iónico de arco múltiple y pulverización catódica con magnetrón, objetivo de arco largo rectangular grande Y objetivos de pulverización catódica, objetivos de pulverización catódica de magnetrón desequilibrado, tecnología de doble objetivo, tecnología de revestimiento por rodillos de deposición de múltiples arcos de tiras de espuma, tecnología de revestimiento por rollos de tela de fibra en tiras, etc., el equipo de galvanoplastia utilizado también se está desarrollando en la dirección de la automatización informática y a gran escala. industrialización. Hacia una industrialización a gran escala.