Composición del material de objetivos recubiertos

La composición del material del objetivo recubierto depende del propósito del recubrimiento y del metal objetivo. Los materiales comunes son:

1. Silicio (Si): se utiliza para preparar películas delgadas de óxido de silicio (SiO2).

2. Cromo (Cr): utilizado para preparar películas finas de cromo, muy utilizado en óptica, electrónica y otros campos.

3. Níquel (Ni): utilizado para preparar películas delgadas de níquel, muy utilizado en grabación magnética, electrónica y campos anticorrosión.

4. Tungsteno (W): utilizado para preparar películas delgadas de tungsteno, muy utilizado en el campo de la electrónica y el recubrimiento.

5. Cobre (Cu): Utilizado principalmente en semiconductores, óptica, electrónica e ingeniería de superficies.

6. Plata (Ag): Utilizada principalmente en óptica, electrónica y otros campos para preparar espejos de alta reflectividad.

7. Titanio (Ti): se utiliza para preparar películas delgadas de titanio, frecuentemente utilizadas en células solares, semiconductores y campos de recubrimiento.

8. Zinc (Zn): utilizado para preparar películas delgadas de zinc, muy utilizado en campos como recubrimientos anticorrosivos y células solares.